紫外臭氧清洗機（UVO）

英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速的材料表面清洗設備，只需把樣品放置到樣品盤上，關上艙門，設置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！

目前的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。

v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。

v 表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學結構切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應用：

v 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

v 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。

v 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。

v 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。

v 科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。              

產(chǎn)品特點

v 成本低；

v 120x120mm樣品臺；

v zui大處理樣品高14mm；

v 抽屜式樣品臺，簡單方便；                                  

v 樣品臺自動**開關,打開UV自動關閉，防止對人身傷害；                     UVO顯示器

v LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；

v 60分鐘定時器；

v 高強度UV燈源；

v 可控溫的樣品臺；

v 樣品清洗無需溶劑；

v 超凈表面。                                                                                 UVO樣品托盤

二、技術參數(shù)

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。

旋涂機

英國Ossila公司旋轉涂布機，方便實用，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案，采用設計的旋涂盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果，操作簡單方便，旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

Ossila旋涂機內(nèi)置調整水平裝置，zui大限度的保證旋涂均勻。

產(chǎn)品特點：

v 體積小巧：可在手套箱和通風廚內(nèi)使用。

v 易安裝，免維護：開機即用(無需真空泵、充氮氣)。

v 智能程序化控制：旋轉速度從120到6000 rpm可編程，可對不同樣品的旋涂（緩慢干燥結晶薄膜）。

v 旋涂質量好：不用抽真空也不會出現(xiàn)襯底翹曲現(xiàn)象,即使旋涂0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更低時，獨特的腔體設計同樣能達到的旋涂效果。

v 低成本、低維修率：只有兩個運動部件,驅動系統(tǒng)和蓋子，由于不使用真空泵和充氮氣線路，節(jié)省真空泵等保養(yǎng)維護費用。

v 耐酸堿防腐蝕：耐酸堿防腐蝕的FEP覆膜操作界面，在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運行。

v 性能可靠：皮實耐用,實驗室搬運沒有損壞的風險。

v **：旋涂機驅動使用24V電源適配器(包括)，不使用高電壓；并且采用智能程序控制自動聯(lián)鎖，保證運行**。

技術參數(shù)：

v 程序:100個程序，每個程序多達100個步驟；

v 轉速穩(wěn)定性:<2%；

v 速度:120-6000rpm；

v 定時器:1-999sec；

v 電源:DC24V，2A；

v 聯(lián)鎖:工作狀態(tài)蓋子自動鎖止功能；

v 尺寸:210x250x120mm；

v 材質:旋涂裝置：PP；殼體：不銹鋼；蓋子：玻璃。